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NF-300H Astra
12英寸PEALD设备

产品介绍

NF-300H Astra 系列是我公司自主研发的原子层沉积(Atomic Layer Deposition)设备,可配置3个6站的反应腔,其ALD反应腔搭载在高产能的PECVD平台上,满足了对设备产能的需求,现已应用于先进的芯片制造及先进封装(TSV)领域,其工艺广泛用于多技术节点及更先进制程逻辑芯片以及存储器芯片制程。现可提供具有高质量的PEALD,如SiO2、SiN薄膜,并陆续开发金属氧化物及金属氮化物等薄膜工艺。



 
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