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产品介绍

FT- 300H
12英寸HTM PECVD设备 

产品介绍

FT-300H系列是我公司自主研发的原子层沉积(Atomic Layer Deposition)设备,ALD反应腔搭载在高产能的PECVD平台上,满足了对设备产能的需求,现已应用于先进的芯片制造及先进封装(TSV)领域,同时针对14nm以下前道工艺(FEOL)进行研制开发。现可提供具有高质量的PEALD,如SiO2、SiN薄膜,并陆续开发金属氧化物及金属氮化物等薄膜工艺。



 
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